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              中芯國際官方解釋N+1工藝,預計第四季度有限量產

              西門子新聞內容   查閱次數:6173   更新時間: 2020-03-24 17:09

              日前中芯國際聯席CEO梁孟松博士首次公開了中芯國際N+1、N+2代工藝的情況,透露N+1工藝相比于14nm性能提升20%、功耗降低57%、邏輯面積縮小63%,SoC面積縮小55%,之后的N+2工藝性能和成本都更高一些。

              業界普遍認為,中芯國際N+1工藝相當于臺積電第一代7nm工藝,N+2則相當于臺積電7nm+,重點在提升性能,年底即可量產。

              今天,中芯國際相關人士詳細解釋了N+1工藝,也澄清了一些誤會。

              首先需要強調的是,N+1是中芯國際的內部代號,并不等于7nm。

              據介紹,中芯國際N+1工藝在去年第四季度完成流片,目前正處于客戶產品驗證階段,預計第四季度有限量產。

              與市場上的7nm相比,中芯國際N+1在功耗、穩定性方面非常相似,唯一的區別就是性能,N+1的性能比14nm提高了約20%,但市場基準提升幅度是35%,所以有差距,但這也是唯一的差距。

              如果是從功耗、穩定性方面而言,可以將中芯國際N+1稱為7nm,而在性能方面確實要比7nm差。

              中芯國際對N+1的目標是低成本應用,可以將成本相對市場上的7nm減少大約10%,因此是一個非常特殊的工藝節點。

              從中芯國際的表態看,N+1更類似于臺積電、三星的10nm,或者有點像三星的8nm,因為20%的性能提升幅度遠低于臺積電預計的30%、實際的35%。

              至于N+2工藝,與市場7nm更為接近,尤其是穩定性,但是性能仍然略遜一籌。

              另外隨著臺積電、三星陸續導入EUV極紫外光刻,中芯國際也在加速推進,但是梁孟松曾明確表示,中芯國際無需EUV就能達成7nm,當然后續的5nm、3nm是必須要有EUV的。

              其實,臺積電第一代7nm也沒有用EUV而是繼續傳統DUV,7nm+才有限導入EUV,幾十層光罩中只有幾層使用。

              責任編輯:gt

              中國電信基站位置查詢

              今日午間,中國電信正式發布2019年全年業績。數據顯示,2019年,中國電信實現經營收入人民幣3757億元,同比下降0.4%,服務收入達到人民幣3576億元,同比增長2.0%,股東應占利潤達到人民幣205.17億元,比去年下降3.3%。

              中國電信指出,截至2019年底,中國電信5G投資人民幣93億元,建成5G基站4萬站,并共享中國聯通5G基站超過2萬站,在用5G基站總規模超過6萬站。

              另外,中國電信透露2020資本開支約850億元,其中5G資本開支約453億元,占總資本開支的55.3%。近日中國電信已經啟動5G核心網新建工程主設備集采,以及5G SA主設備集中資格預審。

              中國電信指出,將與中國聯通力爭三季度完成新增共建共享5G基站25萬站,覆蓋全國所有地市,其中中國電信預計建設14萬站,同時推動SA成為網絡部署的目標架構。

              責任編輯:gt

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